പുതിയ സാങ്കേതികവിദ്യയെക്കുറിച്ചുള്ള TOPCon റിപ്പോർട്ട് നിഷ്ക്രിയത്വത്തെക്കുറിച്ചുള്ള ഉൾക്കാഴ്ചകൾ നൽകുന്നു

• എല്ലാ നൂതന സെൽ സാങ്കേതികവിദ്യകളും പ്രധാനമായും പാസിവേഷൻ പ്രക്രിയയുടെ കാര്യത്തിൽ വ്യത്യാസപ്പെട്ടിരിക്കുന്നു.
• പാസിവേഷനിൽ രണ്ട് രീതികളുണ്ട്: ഫീൽഡ് ഇഫക്റ്റ് പാസിവേഷൻ, കെമിക്കൽ പാസിവേഷൻ.
• തൂങ്ങിക്കിടക്കുന്ന ബോണ്ടുകളെ പൂരിതമാക്കുന്നതിനാണ് കെമിക്കൽ പാസിവേഷൻ കൈകാര്യം ചെയ്യുന്നതെങ്കിൽ, ഒരേ ധ്രുവതയിലുള്ള ചാർജ് കാരിയറുകളെ പുറന്തള്ളുന്നതിനായി ഉപരിതലത്തോട് അടുത്ത് ഒരു വൈദ്യുത മണ്ഡലം സൃഷ്ടിക്കുന്നതിനാണ് ഫീൽഡ് ഇഫക്റ്റ് പാസിവേഷൻ കൈകാര്യം ചെയ്യുന്നത്.

എല്ലാ നൂതന സോളാർ സെൽ സാങ്കേതികവിദ്യകൾക്കും വ്യത്യസ്തമായ സെൽ ഘടനയുണ്ട്, കൂടാതെ തികച്ചും വ്യത്യസ്തമായ ഒരു പ്രക്രിയാ പ്രവാഹമാണ് പിന്തുടരുന്നത്. എന്നിരുന്നാലും, വിശാലമായ വീക്ഷണകോണിൽ നിന്ന് നോക്കുമ്പോൾ, ഈ ഉയർന്ന കാര്യക്ഷമതയുള്ള സെൽ സാങ്കേതികവിദ്യകൾക്കെല്ലാം പാസിവേഷൻ സ്കീമാണ് പ്രധാന വ്യത്യസ്ത ഘടകം. പാസിവേഷൻ കോൺഫിഗറേഷൻ അനുസരിച്ച് മെറ്റലൈസേഷൻ പ്രക്രിയയിൽ മാറ്റങ്ങൾ വരുത്തുന്നത് ഈ നൂതന സെൽ സാങ്കേതികവിദ്യകളെല്ലാം നടപ്പിലാക്കുന്നതിന്റെ മറ്റൊരു പ്രധാന ഭാഗമാണ്. പാസിവേഷന്റെ അടിസ്ഥാനകാര്യങ്ങളുടെ ഒരു സംഗ്രഹം ചുവടെയുണ്ട്.

നിഷ്ക്രിയത്വത്തിന്റെ അടിസ്ഥാനങ്ങൾ

അടിസ്ഥാന അസംസ്കൃത വസ്തുവായ സിലിക്കൺ വേഫറിന്, സെൽ ലൈനിൽ പ്രവേശിക്കുമ്പോഴും അന്തർലീനമായ വൈകല്യങ്ങളുണ്ട്. ഏറ്റവും പ്രധാനപ്പെട്ടത് ഒരു ഇൻഗോട്ടിൽ നിന്ന് വേഫറുകൾ മുറിക്കുന്ന അടിസ്ഥാന പ്രക്രിയയിൽ നിന്ന് ഉത്ഭവിക്കുന്ന ഉപരിതല വൈകല്യങ്ങളാണ്, ഇത് രണ്ട് വേഫർ പ്രതലങ്ങളിലും ഒരു ക്രിസ്റ്റൽ ലാറ്റിസിന്റെ തടസ്സങ്ങൾക്ക് കാരണമാകുന്നു. സിലിക്കൺ ആറ്റങ്ങളുടെ ആനുകാലിക ക്രമീകരണത്തിലെ ഈ തടസ്സങ്ങൾ തൂങ്ങിക്കിടക്കുന്ന ബോണ്ടുകൾ എന്ന് വിളിക്കപ്പെടുന്നവയ്ക്ക് കാരണമാകുന്നു, അവ പുനഃസംയോജന കേന്ദ്രങ്ങളായി പ്രവർത്തിക്കുന്നു. സെൽ കാര്യക്ഷമത സംരക്ഷിക്കുന്നതിലൂടെ ചാർജ് കാരിയറുകളുടെ ഉപരിതല പുനഃസംയോജനം കുറയ്ക്കുന്നതിന് ഈ വൈകല്യങ്ങൾ നിർജ്ജീവമാക്കുന്ന ഒരു പ്രക്രിയയാണ് പാസിവേഷൻ.

പാസിവേഷന്റെ രണ്ട് പൂരക രീതികളുണ്ട്: a) ഉപരിതലത്തിലേക്ക് എത്തുന്ന ഒരു ധ്രുവത്തിന്റെ ചാർജ് കാരിയറുകൾ ശക്തമായി കുറയ്ക്കുക, b) തൂങ്ങിക്കിടക്കുന്ന ബോണ്ടുകളെ പൂരകമാക്കുന്നതിലൂടെ ഇന്റർഫേസ് അവസ്ഥ കുറയ്ക്കുക. രണ്ടാമത്തേത് വീണ്ടും രണ്ട് തരത്തിൽ നേടിയെടുക്കാം. ഒന്ന്, ഈ തൂങ്ങിക്കിടക്കുന്ന ബോണ്ടുകളെ പൂരകമാക്കുന്നതിന് ആറ്റങ്ങൾക്ക് ഒപ്റ്റിമൽ ഊർജ്ജ നിലയിലെത്താൻ ആവശ്യമായ സമയവും ഊർജ്ജവും അനുവദിക്കുന്ന ഒരു ഉപരിതല പാളി വളർത്തുന്നതിന് അനുയോജ്യമായ സാഹചര്യങ്ങൾ നൽകിക്കൊണ്ട് ഉപരിതലത്തിലെ തൂങ്ങിക്കിടക്കുന്ന ബോണ്ടുകളെ പൂരകമാക്കുക എന്നതാണ്. പകരമായി, തുടർന്നുള്ള ഫയറിംഗ് ഘട്ടങ്ങളിൽ ഹൈഡ്രജൻ പുറത്തുവിടുന്ന ഒരു ഹൈഡ്രജൻ സമ്പുഷ്ടമായ ഡൈഇലക്ട്രിക് ഫിലിം നിക്ഷേപിക്കാം. സ്വതന്ത്ര ഹൈഡ്രജൻ തൂങ്ങിക്കിടക്കുന്ന ബോണ്ടുകളുടെ ഒഴിഞ്ഞ സ്ഥലങ്ങൾ കൈവശപ്പെടുത്തുകയും അതുവഴി അവയെ ശമിപ്പിക്കുകയും ചെയ്യുന്നു. ഈ രീതിയെ വിളിക്കുന്നു കെമിക്കൽ പാസിവേഷൻ.

എന്ന് വിളിക്കപ്പെടുന്ന മറ്റൊരു സംവിധാനം നിലവിലുണ്ട് ഫീൽഡ് ഇഫക്റ്റ് പാസിവേഷൻ, ഇതിൽ ഉപരിതലത്തോട് ചേർന്ന് ഒരു വൈദ്യുത മണ്ഡലം സൃഷ്ടിക്കുന്നത് ഉൾപ്പെടുന്നു, ഇത് സമാന ധ്രുവതയുള്ള ചാർജ് കാരിയറുകളെ അകറ്റാൻ കഴിയും. ഉയർന്ന ഉപരിതല സാന്ദ്രതയിൽ നിന്ന് ഡോപന്റ് സാന്ദ്രത കുറയ്ക്കുന്നതിലൂടെ ഇത് നേടാനാകും. മുകളിൽ, ഉയർന്ന സ്ഥിര ചാർജുകളുള്ള ഒരു ഡൈഇലക്ട്രിക് പാളി പ്രയോഗിക്കുന്നത് ഉപരിതലത്തിനടുത്ത് ഒരു വൈദ്യുത മണ്ഡല ഗ്രേഡിയന്റ് സൃഷ്ടിക്കുന്നു, ഇത് ഫീൽഡ് ഇഫക്റ്റ് പാസിവേഷൻ നൽകുന്നു (ഗ്രാഫ് കാണുക). ഈ അടിസ്ഥാന തത്വം പിന്തുടർന്ന്, ഓരോ നൂതന സെൽ ആർക്കിടെക്ചറിനും ഒരു പ്രത്യേക പാസിവേഷൻ സ്കീം ഉണ്ട്.

ഉറവിടം തായാങ് വാർത്തകൾ