Keputusan Hebat Pvd Telah Menarik Pemain Utama dalam Sel Topcon

• Sebagai tambahan untuk bebas lilitan, PVD membawa faedah lain seperti daya pemprosesan tinggi dan OpEx rendah untuk memproses sel solar TOPCon
• CapEx yang lebih tinggi dan jejak kaki adalah kelemahan teknologi
• Menurut Laporan Sel Suria TOPCon TaiyangNews 2021, Jietai adalah satu-satunya syarikat yang menawarkan produk komersial berdasarkan PVD untuk TOPCon, manakala Polar PV dan Von Ardenne telah mengusahakan produk juga

Sebarang teknologi pemendapan alternatif kepada LPCVD untuk aplikasi TOPCon adalah percuma. Begitu juga dengan Pemendapan Wap Fizikal (PVD), laluan yang diikuti oleh beberapa vendor peralatan serta pengeluar. Teknologi ini menyokong daya pemprosesan yang sangat tinggi, penyelenggaraan yang rendah (berbanding dengan LPCVD) dan kos operasi, tetapi cetakan kaki dan capex yang lebih tinggi adalah di sisi lain.

Secara teknikalnya termasuk dalam kategori PVD, berasaskan China Jietai lebih suka teknologinya dipanggil POPAID, iaitu singkatan kepada Pengoksidaan Plasma dan Doping In-situ Berbantukan Plasma. Sesungguhnya, teknologi ini lebih daripada PVD; ia menggabungkan PVD dan pengoksidaan plasma dalam satu platform alat. Jiangsu Jietai Photoelectric Corp LTD (Jietai) telah mengusahakan bekalan peralatan solar selama kira-kira sedekad sekarang, dengan tumpuan awalnya pada goresan kering alat yang direka terutamanya untuk multikristalin. Pada 2019, syarikat itu mula mengusahakan penyelesaian berasaskan PVDnya dengan matlamat untuk menangani kelemahan teknologi pemendapan lain, terutamanya pembalut. Alat syarikat melaksanakan semua langkah yang diperlukan untuk TOPCon — pembentukan terowong oksida, pemendapan polislikon dan doping dalam-situ.

Syarikat itu menggunakan sumber plasma RF linear untuk pengoksidaan, yang menurut Ketua Pegawai Eksekutif Jietai Quanyuan Shang menyokong daya pemprosesan yang lebih tinggi, kerosakan yang rendah dan menawarkan tahap kawalan yang lebih tinggi. Daya pemprosesan reaktor adalah sensitif saiz wafer; ia boleh memproses 10,000 wafer G1 sejam, menurun kepada 8,000 apabila memproses wafer M10. "Matlamatnya adalah untuk mendapatkan 1 GW dengan dua garisan selari (mesin), itulah cara kami mensaiz alat itu," kata Shang. Daya pemprosesan ini berada pada ketebalan lapisan polisilikon 100 nm. Seperti yang boleh dijangkakan, sistem sedemikian agak panjang, berukuran 23 m panjang. Alat ini mempunyai kitaran penyelenggaraan berjadual selama 1 bulan, yang syarikat menjangkakan untuk meregangkan hingga 2 bulan. Jietai ialah rakan kongsi peralatan untuk Jolywood untuk teknologi J-TOPCon 2.0 yang berasaskan POPAID. Jietai telah membina satu alat pengeluaran setakat ini dan menjangkakan untuk menghantar alatan POPAID sebanyak 5 GW menjelang akhir tahun ini, terutamanya ke Jolywood. "Kami hampir habis dijual untuk tahun ini," kata Shang. Syarikat itu meningkatkan kemudahan pengeluarannya, bermakna ia akan menghormati pesanan daripada orang lain tahun depan.

PV kutub nampaknya mengikuti rapat reka bentuk reaktor Jietai dan mempersembahkan sistem PVD pemacu magnetron menegak sebaris pada persidangan tahun lepas. Alat ini direka untuk memproses pembawa dengan 60 slot sel dalam konfigurasi 6 x 10 dengan masa kitaran 40 hingga 50 saat. Alat ini direka untuk mencapai semua langkah yang diperlukan untuk proses TOPCon; menggunakan filem silikon oksida, di atasnya dengan pemendapan lapisan polisilikon terdop dalam-situ. Walaupun begitu bilangan langkah pemprosesan dikurangkan dengan ketara berbanding LPCVD. Persediaan reaktor dilengkapi dengan ruang pengoksidaan plasma oksigen tenaga rendah untuk pembentukan terowong oksida dalam persekitaran plasma gas tulen. Sumber pengionan juga bebas penyelenggaraan. Lapisan silikon amorfus, didepositkan menggunakan sasaran silikon berputar dan doping in-situ, dicapai dengan pengenalan gas doping.

PVD mempunyai beberapa kelebihan berbanding LPCVD yang sedia ada. Yang pertama dan terpenting, menurut Polar PV, ialah kos operasi yang rendah dan penyelenggaraan yang rendah. Penjimatan kos ini berpunca daripada fakta bahawa proses ini tidak melibatkan perkakas kuarza, yang merupakan pemacu kos utama untuk proses LPCVD. Selain itu, sebagai satu proses sebelah, pembalut menjadi kurang isu, seterusnya membantu penjimatan kos. Alat PVD Polar PV menyokong daya pemprosesan sehingga 10,000 wafer sejam.

Penggunaan tenaga adalah satu lagi cara penting untuk mengurangkan kos apabila PVD bersinar. PV kutub menyerlahkan bahawa PVD menggunakan 77% tenaga untuk salutan dan 16% untuk pemanasan. Sebaliknya, angka ini masing-masing adalah 34% dan 45%, dalam kes CVD. Maksudnya ialah penggunaan tenaga dalam PVD jauh lebih baik daripada CVD, iaitu, ia digunakan di tempat yang lebih penting.

PVD juga mendapat markah tinggi dari segi bahan guna proses. Ia menggunakan sasaran silikon yang jauh lebih murah daripada silane yang digunakan sebagai prekursor dalam LPCVD. Sebaliknya, PVD mempunyai CapEx yang tinggi dan jejak yang lebih besar.

Von Ardenne, dengan beberapa dekad pengalaman dalam membina reaktor PVD, juga telah membangunkan penyelesaian TOPCon PV berdasarkan teknologi ini. Penyelesaian syarikat Jerman untuk sesentuh terpasif adalah berdasarkan percikan silikon amorf pada silikon oksida — masih dalam fasa pembangunan, tetapi dengan hasil pertama yang menggalakkan. Setelah bersedia, Von Ardenne merancang untuk melaksanakan proses itu pada platform alat PVD berkeupayaan tingginya, pada masa ini mampu memproses lebih 10,000 wafer sejam.

 Memandangkan hari ini tenaga kerja industri solar masih merupakan sel PERC, TaiyangNews akan menganjurkan persidangan maya mengenai Menolak Sel PERC ke Hadnya pada 22 Mac 2022.

Sumber daripada Berita Taiyang