د PvD ښې پایلې په ټاپکون سیلونو کې کلیدي لوبغاړی راجلب کړی دی

• د پوښښ څخه پاک سربیره، PVD نورې ګټې هم راوړي لکه د TOPCon سولر حجرو پروسس کولو لپاره لوړ تروپټ او ټیټ OPEX.
• لوړ پانګه او د پښو نښه د ټیکنالوژۍ نیمګړتیاوې دي
• د تایانګ نیوز د ټاپ کان سولر سیل راپور ۲۰۲۱ له مخې، جیتای یوازینی شرکت دی چې د ټاپ کان لپاره د PVD پر بنسټ سوداګریز محصول وړاندې کوي، پداسې حال کې چې پولر PV او وان اردین هم په محصولاتو کار کوي.

د TOPCon غوښتنلیکونو لپاره د LPCVD سره هر ډول بدیل زیرمه کولو ټیکنالوژي د پوښښ څخه پاکه ده. او د فزیکي بخار زیرمه کولو (PVD) قضیه هم همداسې ده، یوه لاره چې د تجهیزاتو ځینې پلورونکي او همدارنګه تولیدونکي یې تعقیبوي. دا ټیکنالوژي خورا لوړه کچه، ټیټ ساتنه (د LPCVD په پرتله) او عملیاتي لګښتونو ملاتړ کوي، مګر نسبتا لوړ فوټ پرنټ او کیپیکس په بل اړخ کې دي.

په تخنیکي لحاظ د PVD کټګورۍ لاندې راځي، په چین کې میشته جيتای غوره ګڼي چې د هغې ټیکنالوژي POPAID وبلل شي، کوم چې د پلازما اکسیډیشن او پلازما اسسټډ ان سیټو ډوپینګ لپاره لنډیز دی. په حقیقت کې، ټیکنالوژي د PVD څخه ډیره ده؛ دا په یوه وسیله پلیټ فارم کې PVD او پلازما اکسیډیشن سره یوځای کوي. جیانګ سو جیتای فوټو الیکټریک کارپوریشن لمیټډ (جیتای) د شاوخوا یوې لسیزې راهیسې د لمریز تجهیزاتو رسولو باندې کار کوي، چې لومړنی تمرکز یې په وچ ایچنګ وسایل په عمده توګه د څو کریسټالین لپاره ډیزاین شوي. په ۲۰۱۹ کال کې، شرکت د خپل PVD پر بنسټ حل باندې کار پیل کړ چې موخه یې د نورو زیرمو ټیکنالوژیو نیمګړتیاوې حل کول دي، په ځانګړې توګه د ریپراونډ. د شرکت وسیله د TOPCon لپاره ټول اړین ګامونه ترسره کوي - د تونل کولو اکسایډ جوړول، پولیسیلیکون زیرمو او په سیمه کې ډوپینګ.

شرکت د اکسیډیشن لپاره د خطي RF پلازما سرچینې کاروي، کوم چې د جیتای د اجرایوي رییس کوان یوان شانګ په وینا د لوړ تروپټ، ټیټ زیان ملاتړ کوي او د کنټرول لوړه کچه وړاندې کوي. د ری ایکټرونو تروپټ د ویفر اندازې حساس دی؛ دا کولی شي په ساعت کې 10,000 G1 ویفرونه پروسس کړي، د M8,000 ویفرونو پروسس کولو پرمهال 10 ته راټیټیږي. شانګ وویل: "هدف دا دی چې د دوه موازي لینونو (ماشینونو) سره 1 GW ترلاسه کړو، دا هغه څه دي چې موږ وسیله اندازه کړه." دا تروپټ د 100 nm د پولی سیلیکون پرت ضخامت کې دی. لکه څنګه چې یو څوک تمه کولی شي، دا ډول سیسټم خورا اوږد دی، د 23 مترو اوږدوالی اندازه کوي. وسیله د 1 میاشتې مهالویش شوي ساتنې دوره لري، کوم چې شرکت تمه لري چې 2 میاشتو ته وغځوي. جیتای د جولي ووډ لپاره د هغې د J-TOPCon 2.0 ټیکنالوژۍ لپاره د تجهیزاتو ملګری دی چې د POPAID پر بنسټ دی. جیتای تر اوسه پورې یو د تولید وسیله جوړه کړې او تمه لري چې د دې کال تر پایه پورې د POPAID وسایل د 5 ګیګاواټو په اندازه، په عمده توګه جولي ووډ ته واستوي. شانګ وویل: "موږ د دې کال لپاره ډیر پلورل شوي یو." شرکت خپل تولیدي تاسیسات پراخوي، پدې معنی چې دا به راتلونکی کال د نورو امرونو ته درناوی وکړي.

قطبي PV داسې ښکاري چې د جیتای د ری ایکټر ډیزاین په نږدې توګه تعقیبوي او تیر کال یې په یوه کنفرانس کې د خپل انلاین عمودی مقناطیسي سپټرینګ PVD سیسټم وړاندې کړ. دا وسیله د 60 حجرو سلاټونو سره د 6 x 10 ترتیب کې د 40 څخه تر 50 ثانیو پورې د دورې وخت سره د کیریر پروسس کولو لپاره ډیزاین شوې. دا وسیله د TOPCon پروسې لپاره د ټولو اړینو مرحلو بشپړولو لپاره ډیزاین شوې؛ د سیلیکون آکسایډ فلم پلي کول، د ان-سیټو ډوپډ پولیسیلیکون پرت زیرمه سره پورته شوی. حتی بیا هم د پروسس مرحلو شمیر د LPCVD په پرتله د پام وړ کم شوی. د ری ایکټر تنظیم د خالص ګاز پلازما چاپیریال کې د تونل کولو آکسایډ جوړولو لپاره د ټیټ انرژي اکسیجن پلازما اکسیډیشن چیمبر سره سمبال شوی. د ایونیزیشن سرچینه هم له ساتنې څخه پاکه ده. د امارفوس سیلیکون طبقه، چې د روټري سیلیکون هدفونو او ان-سیټو ډوپینګ په کارولو سره زیرمه شوې، د ډوپینګ ګاز معرفي کولو سره ترسره کیږي.

PVD د اوسني LPCVD په پرتله ډیری ګټې لري. د پولر PV په وینا، لومړی او تر ټولو مهم د عملیاتو ټیټ لګښت او ټیټ ساتنه ده. دا لګښت سپمول د دې حقیقت څخه رامینځته کیږي چې دا پروسه کوارټز-ویر نه لري، کوم چې د LPCVD پروسې لپاره د لګښت یو لوی چلوونکی دی. سربیره پردې، د یو اړخیزې پروسې په توګه، د پوښلو مسله کمه کیږي، چې د لګښت سپمولو کې نور هم مرسته کوي. د پولر PV PVD وسیله په ساعت کې تر 10,000 ویفرونو پورې د تولید ملاتړ کوي.

د انرژۍ مصرف د لګښتونو کمولو لپاره یوه بله مهمه وسیله ده چیرې چې PVD روښانه کیږي. پولر PV په ګوته کوي چې PVD د پوښښ لپاره 77٪ او د تودوخې لپاره 16٪ انرژي کاروي. برعکس، دا ارقام په ترتیب سره د CVD په قضیه کې 34٪ او 45٪ دي. دا پدې مانا ده چې په PVD کې د انرژۍ کارول د CVD په پرتله خورا ښه دي، یعنې، دا په هغه ځای کې کارول کیږي چیرې چې دا ډیر مهم وي.

PVD د پروسس مصرفي توکو له پلوه هم لوړ نمرې لري. دا د سیلیکون هدفونه کاروي چې د LPCVD کې د مخکیني په توګه کارول شوي سیلین په پرتله خورا ارزانه دي. له بلې خوا، PVD لوړ کیپیکس او لوی نفوذ لري.

وان اردند PVD ری ایکټرونو په جوړولو کې د څو لسیزو تجربې سره، د دې ټیکنالوژۍ پر بنسټ د TOPCon PV حل هم رامینځته کوي. د غیر فعال تماسونو لپاره د آلمان شرکت حل د سیلیکون اکسایډ باندې د امورفوس سیلیکون د تویولو پر بنسټ والړ دی - لاهم د پراختیا په مرحله کې دی، مګر بیا هم د هڅونکي لومړي پایلو سره. یوځل چې چمتو شي، وان آرډین پلان لري چې دا پروسه په خپل لوړ-تروپټ PVD وسیلو پلیټ فارم کې پلي کړي، چې اوس مهال په ساعت کې له 10,000 څخه ډیر ویفرونه پروسس کولو توان لري.

 څرنګه چې نن ورځ د لمریزې صنعت کاري ځواک لاهم د PERC حجرې دي، تایانګ نیوز به د مارچ په ۲۲، ۲۰۲۲ کې د PERC حجرو محدودیتونو ته د هڅولو په اړه یو مجازی کنفرانس جوړ کړي.

د سرچینې څخه د تای یانګ خبرونه